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情報システム企画、開発、運用

年収:800万 ~ 1100万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 情報システム企画、開発、運用
職種
業種
勤務地
仕事内容 【業務内容】
〇情報システムの企画・開発・運用を担当していただきます。具体的には、
・システムの計画立案とユーザ部門との要件定義
・ベンダーを活用したシステムの開発(設計・管理・受入テスト)
・システムの運用(ユーザ問い合わせ対応、調査、機能改善)

【募集背景】
・従業員増加による体制強化、部内の高齢化による引き継ぎ先の確保、人手不足による業務の属人化の改善のため。

【職場や職務の魅力】
・自身の采配で業務遂行しやすい職場です。
・業務での困りごとを先輩社員に相談しやすい環境です。
・社内ではスタッフ職のため直接的な会社の売上等に貢献はできませんが、従業員が仕事をしやすい環境を構築・サポートすることで会社に貢献でき、ユーザの困りごとを解決することにより直接的に感謝されます。
・導入したいシステムがあれば、自発的に提案していただくことも可能です。
労働条件 ■給与
【担当クラス】年収:400万円~ 700万円、月給:22万円~39万円
【主任クラス】年収:550万円~ 800万円、月給:30万円~45万円
【参事クラス】年収:900万円~1100万円、月給:50万円~60万円
●年収例
・640万円/29歳(独身/月給30万8000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・760万円/33歳(既婚・子1人/月給37万1000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・1065万円/参事(月給56万8500円+賞与)
※時間外手当…24時間/月として算出(2022年度全社平均)
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします

■試用期間
・有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)

■勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
・時間外労働:有(月平均25時間)

■休日・休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上

■社会保険
・厚生年金、健康保険(当社グループ健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険

■福利厚生
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大
30万円補助)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・共済会制度
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
応募資格

【必須(MUST)】

・情報システムに関わる何らかの経験がある方。
・プロジェクトマネージャー、プロジェクトリーダーの経験がある方。

【歓迎(WANT)】

・販売、設計、調達、生産、製造、保守(サービス)、会計システム等のシステム構築経験・ITスキルのある方
・プログラミング経験がある方。(言語は問わないが、オブジェクト指向言語が望ましい)
・ヘルプデスク業務の経験がある方。(ユーザの困りごとをヒアリングし、的確な回答を迅速に行う)

アピールポイント Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み フレックスタイム
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2024/10/04
求人番号 2624313

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【設立】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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