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半導体製造装置設計・製造における技術管理業務支援(新システム導入・部品構成表整備

年収:800万 ~ 1100万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 半導体製造装置設計・製造における技術管理業務支援(新システム導入・部品構成表整備
職種
業種
勤務地
仕事内容 【業務内容】
〇下記の業務を担当していただきます。
①新システム(PLM・基幹システム)導入に向けた部品構成表整備、その他課題抽出/解決(主に電気系)
→部品構成表作成方針決め~部品構成表整備、新システム導入に向けた現状課題抽出~解決
②標準部品(カタログ品)の整備(属性情報、重複解消等)
→標準部品属性情報見直し、重複品目(同体異番)抽出・統合
③技術標準関連業務
→技術標準委員会運営にまつわる業務(事務局運営)

【募集背景】
・業務拡大に伴う組織の強化、組織構成上の人材確保のため。

【職場や職務の魅力】
・世界的にトップクラスシェアをもつ電子ビームマスク描画装置、最先端の半導体マスク検査装置やSiCに関する半導体製造装置の製品安全に関わる分野で活躍できます。
・部員にキャリア採用のメンバーが多く、馴染みやすい環境です。
労働条件 ■給与
【担当クラス】年収:400万円~ 700万円、月給:22万円~39万円
【主任クラス】年収:550万円~ 800万円、月給:30万円~45万円
【参事クラス】年収:900万円~1100万円、月給:50万円~60万円
●年収例
・640万円/29歳(独身/月給30万8000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・760万円/33歳(既婚・子1人/月給37万1000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・1065万円/参事(月給56万8500円+賞与)
※時間外手当…24時間/月として算出(2022年度全社平均)
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします

■試用期間
・有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)

■勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
・時間外労働:有(月平均25時間)

■休日・休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上

■社会保険
・厚生年金、健康保険(当社グループ健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険

■福利厚生
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大
30万円補助)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・共済会制度
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
応募資格

【必須(MUST)】

・技術管理部門・設計部門(主に電気系)での業務経験がある方(製品分野、経験年数不問)
・コミュニケーション能力に優れ、新しい物事に対し好奇心旺盛な方

【歓迎(WANT)】

・電気設計に明るい方(制御盤、操作盤、分電盤、配線等)
・PLM、PDMを活用した業務経験がある方(ENOVIA等)
・社内業務プロセス改善活動業務経験がある方
・設計部門にて設計補助経験がある方、BOM作成経験のある方
・部品管理システム(ソリューション不問)の取り扱いが分かる方
・装置設計・製造業務経験がある方、装置製造会社にて業務経験がある方
・社内に新規ソリューション導入経験がある方

アピールポイント Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み フレックスタイム
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2024/10/09
求人番号 2624597

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【設立】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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