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半導体製造装置の製品開発業務プロセス改善
年収：800万 ～ 1100万
採用企業案件
株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
| 部署・役職名 | 半導体製造装置の製品開発業務プロセス改善 |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
【業務内容】 全社の製品開発業務が合理的に進捗するための業務フローや仕組みを整備します。 社内情報の分析や製品開発部門へのヒアリングから現状把握をしたうえで問題分析、課題抽出、改善施策の提案を行います。 改善施策として、業務プロセスの改善、業務プロセスを運用するための社内規程・社内標準・ソリューションの整備などを具現化します。 主に以下のような業務をご担当していただきます。 ・ 製品開発業務プロセスの改善 ・製品開発関連管理規程の改善 ・設計開発効率化ソリューションの提案 【採用背景】 半導体の微細化の進展により、主力製品である電子ビームマスク描画装置をはじめ弊社製品の需要が拡大しています。その中で、顧客ニーズに対応した製品を迅速に開発するために、製品開発業務プロセスの効率化・高品質化が必要です。現在、全社的な設計開発業務プロセスの改善のための組織力強化を図っております。 【組織の魅力】 ・世界的にトップクラスシェアをもつ電子ビームマスク描画装置、最先端の半導体マスク検査装置やSiCに関する半導体製造装置の設計開発業務プロセス・仕組み構築に関わる分野で活躍できます。 ・部員にキャリア採用のメンバーが多く、馴染みやすい環境です。 |
| 労働条件 |
■給与 【担当クラス】年収：400万円～ 700万円、月給：22万円～39万円 【主任クラス】年収：550万円～ 800万円、月給：30万円～45万円 【参事クラス】年収：900万円～1100万円、月給：50万円～60万円 ●年収例 ・640万円／29歳（独身／月給30万8000円＋時間外手当＋各種手当＋賞与） ・760万円／33歳（既婚・子1人／月給37万1000円＋時間外手当＋各種手当＋賞与） ・1065万円／参事（月給56万8500円＋賞与） ※時間外手当…24時間/月として算出（2022年度全社平均） ・昇給：有（年1回：4月） ※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします ■試用期間 ・有：6ヵ月（条件・待遇に変動なし） ■勤務時間 ・8：45～17：30（休憩時間：60分、実働時間：7時間45分） ※フレックスタイム制（コアタイム無し） ・時間外労働：有（月平均25時間） ■休日・休暇 ・完全週休2日制（土・日）、祝日 ・年末年始休暇、夏季休暇 ・有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日） ・慶弔休暇、特別休暇 等 ・年間休日125日以上 ■社会保険 ・厚生年金、健康保険（当社グループ健康保険組合）、雇用保険、労災保険、介護保険 ■福利厚生 ・定年：60歳、再雇用：65歳まで ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅（適用条件有） ※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間） ・目的型福祉制度（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大 30万円補助） ・選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与） ・共済会制度 ・保養所、健康診断 ・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得 ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 ・教育研修制度 ほか |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 製造業において下記いずれかの経験をお持ちの方・ 製品開発のための技術開発 ・ 製品設計（ハードウェア、ソフトウェア、システム等いずれでも） ・ 技術管理（設計品質改善、開発管理規程の整備、開発管理業務など） ・ 設計開発システム運用・導入 【歓迎（WANT）】 ・製造業における開発設計（電気・電子・機械・化学など）の経験がある方・開発設計に関する業務改善を推進した経験がある方 ・多くの部門との折衝、調整業務の経験がある方 ・ 社内外へのコンサルティング経験がある方 ・半導体製造装置関連の知識 ・英文の読解および作成が可能な方（今後向上させたいと意欲がある方歓迎） |
| アピールポイント | Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み フレックスタイム |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2024/10/09 |
| 求人番号 | 2624609 |
採用企業情報
- 株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
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会社概要
【設立】2002年8月1日
【代表者】高松 潤
【資本金】64億8,600万円
【従業員数】907名（2024年3月31日現在）
【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
【事業内容】
当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。
電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI（大規模集積回路）の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画・製造するための装置です。
エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。
マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
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