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ハードシステム開発・設計
年収：800万 ～ 1100万
採用企業案件
株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
| 部署・役職名 | ハードシステム開発・設計 |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
【業務内容】 〇電子ビームマスク描画装置内のデータパス・描画制御部において、マスクパターンデータを制御部向けのデータに変換するデジタル高速演算処理及びリアルタイムテータ補正を行うデジタル回路の開発を担当していただきます。 具体的には ・ハードウェア仕様検討（各モジュールのIF仕様を含む） ・開発キット/カスタム基板等を用いての部品/回路評価 ・設計（外注） ・製造（外注） ・評価方法検討 ・評価ツール作成 【募集背景】 ・高いハードウェアスキルを持つ人財を増員することで、開発力の強化をはかるため。 【職場や職務の魅力】 ・電子ビームマスク描画装置の描画の心臓部であるハードウェアの設計開発に携わることによって、更なるスキルアップに繋がる。 ・電子ビームマスク描画装置の計算機・機械・電気・光学等、幅広い分野の知識を必要とし、更なるスキルアップに繋がる。 ・高速でデータ処理を行う必要があるため、最新の技術を利用したシステム開発に従事することができる。 ・風通しの良い職場です。 |
| 労働条件 |
■給与 【担当クラス】年収：400万円～ 700万円、月給：22万円～39万円 【主任クラス】年収：550万円～ 800万円、月給：30万円～45万円 【参事クラス】年収：900万円～1100万円、月給：50万円～60万円 ●年収例 ・640万円／29歳（独身／月給30万8000円＋時間外手当＋各種手当＋賞与） ・760万円／33歳（既婚・子1人／月給37万1000円＋時間外手当＋各種手当＋賞与） ・1065万円／参事（月給56万8500円＋賞与） ※時間外手当…24時間/月として算出（2022年度全社平均） ・昇給：有（年1回：4月） ※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします ■試用期間 ・有：6ヵ月（条件・待遇に変動なし） ■勤務時間 ・8：45～17：30（休憩時間：60分、実働時間：7時間45分） ※フレックスタイム制（コアタイム無し） ・時間外労働：有（月平均25時間） ■休日・休暇 ・完全週休2日制（土・日）、祝日 ・年末年始休暇、夏季休暇 ・有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日） ・慶弔休暇、特別休暇 等 ・年間休日125日以上 ■社会保険 ・厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険 ■福利厚生 ・定年：60歳、再雇用：65歳まで ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅（適用条件有） ※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間） ・目的型福祉制度（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大 30万円補助） ・選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与） ・共済会制度 ・保養所、健康診断 ・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得 ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 ・教育研修制度 ほか |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 ・デジタル、アナログ制御回路(電気/電子回路)設計の知識・業務経験がある方。【歓迎（WANT）】 ・C言語もしくはC++における制御ソフトウェア開発の経験がある方。・大規模ハードウェアシステムの開発経験がある方。 ・linuxの基本的な操作経験がある方。 ・PCIe/Advanced TCA/通信プロトコル（Ethernet等）の知識、経験があるかた。 ・測定機（オシロスコープ等）を用いた評価方法の経験がある方。 ・RTL（Verilog等）の実装知識・業務経験がある方。 ・安全審査に関わる知識がある方。 |
| アピールポイント | Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み フレックスタイム |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2024/10/04 |
| 求人番号 | 2644868 |
採用企業情報
- 株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
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会社概要
【設立】2002年8月1日
【代表者】高松 潤
【資本金】64億8,600万円
【従業員数】907名（2024年3月31日現在）
【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
【事業内容】
当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。
電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI（大規模集積回路）の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画・製造するための装置です。
エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。
マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
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