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電気設計技術
年収：800万 ～ 1100万
採用企業案件
株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
| 部署・役職名 | 電気設計技術 |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
【業務内容】 〇下記の業務を担当していただきます。 ・次世代マルチビーム描画装置の電気回路設計、制御盤仕様策定 【募集背景】 ・業務拡大に伴う中核人材の確保、及び今後予想される定年退職の構成メンバーの人員補充を目的とした募集となります。 【職場や職務の魅力】 ・電子ビームマスク描画装置の開発から設計・試作・製造まで幅広い工程に携われます。 ・新規世代の描画装置を構成するサブユニットに対して、要素開発から設計・試作を、チームで協力して、製品化していくやりがいのある仕事が行えます。 ・また、描画装置は、高精度かつ高い歩留の電子ビーム描画を実現する必要があるため、さまざまな技術の応用で構成されます。各技術領域の技術者と一緒に仕事ができるので、機械設計にとどまらず、半導体製造装置の幅広い技術的な知見が将来的に身につけられます。 |
| 労働条件 |
■給与 【担当クラス】年収：400万円～ 700万円、月給：22万円～39万円 【主任クラス】年収：550万円～ 800万円、月給：30万円～45万円 【参事クラス】年収：900万円～1100万円、月給：50万円～60万円 ●年収例 ・640万円／29歳（独身／月給30万8000円＋時間外手当＋各種手当＋賞与） ・760万円／33歳（既婚・子1人／月給37万1000円＋時間外手当＋各種手当＋賞与） ・1065万円／参事（月給56万8500円＋賞与） ※時間外手当…24時間/月として算出（2022年度全社平均） ・昇給：有（年1回：4月） ※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします ■試用期間 ・有：6ヵ月（条件・待遇に変動なし） ■勤務時間 ・8：45～17：30（休憩時間：60分、実働時間：7時間45分） ※フレックスタイム制（コアタイム無し） ・時間外労働：有（月平均25時間） ■休日・休暇 ・完全週休2日制（土・日）、祝日 ・年末年始休暇、夏季休暇 ・有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日） ・慶弔休暇、特別休暇 等 ・年間休日125日以上 ■社会保険 ・厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険 ■福利厚生 ・定年：60歳、再雇用：65歳まで ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅（適用条件有） ※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間） ・目的型福祉制度（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大 30万円補助） ・選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与） ・共済会制度 ・保養所、健康診断 ・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得 ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 ・教育研修制度 ほか |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 下記のすべてに該当する方・分電盤・制御盤の設計経験 ・電気図面（単線結線図、三線結線図、展開接続図、外形図、板金図、内部配置図）の設計・確認経験 ・各種センサ類の装置組込設計または選定の経験 ・制御盤設計者で、シーケンスラダーの最終調整経験者 ・設計に伴う各種仕様書などの作成経験 ・英語 （ビジネスで最低限必要なレベルで） 【歓迎（WANT）】 ・電気安全/SEMI規格の知識や経験が有る方・PLC（シーケンサ）の設計、実装、シミュレータ動作確認、検証に関する経験 ・プログラム開発（ST言語、C言語、その他言語については別途確認調整）の経験 ※OMRON SysmcStudio、Mitsubishi GX Works3 及びiQ Worksを使用してのPLCの経験者 |
| アピールポイント | Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み フレックスタイム |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2024/10/04 |
| 求人番号 | 2644926 |
採用企業情報
- 株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
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会社概要
【設立】2002年8月1日
【代表者】高松 潤
【資本金】64億8,600万円
【従業員数】907名（2024年3月31日現在）
【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
【事業内容】
当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。
電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI（大規模集積回路）の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画・製造するための装置です。
エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。
マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
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