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先進的プロセス技術開発<半導体洗浄技術>

年収:800万 ~ 1200万

ヘッドハンター案件

部署・役職名 先進的プロセス技術開発<半導体洗浄技術>
職種
業種
勤務地
仕事内容 ■同社で扱う半導体洗浄装置のプロセス技術開発業務を担当いただきます。



【具体的には】

・半導体洗浄装置におけるウェット洗浄プロセスや、ウェットエッチング技術の性能・機能向上のため、半導体基板上の微細パターンの制御や、エッチングプロセスを研究し、反応等のメカニズムを解明することにより、半導体洗浄装置の基礎技術開発を行う

・上記をベースに、先端半導体プロセスの課題を解決する新たな機構・材料・プロセス手法を提案し、洗浄装置へ実装する

・半導体洗浄装置の基礎技術開発において、プロセス研究開発テーマのプロジェクトリーダー業務を担当。4~6人程度のチームを率い、技術的な計画立案と実行をリーディングする。
労働条件 09:00 - 17:30(コアタイム 10:30 - 14:30)

健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金

家族手当、時間外手当、休日出勤手当、単身赴任手当、通勤手当(新幹線通勤補助有り)

※管理職の場合:家族手当なし、E職は時間外が30時間超の際にのみ超過分が支給

寮・社宅、退職金、財形貯蓄

年間124日/(内訳)完全週休2日制(土日)、夏季休暇、年末年始、有給休暇、慶事休暇、PitStop5有休制度
応募資格

【必須(MUST)】

【必須要件】※以下すべて満たす方

・半導体/FPD工程のプロセス技術開発の経験をお持ちの方

・グループリーダー経験もしくはそれに準ずるご志向をお持ちの方

・化学、物理系の修学または実務経験をお持ちの方

・TOEIC 470点以上の英語力をお持ちの方



【歓迎要件】

・洗浄プロセス、ウェットエッチングプロセスの実務経験をお持ちの方

・半導体工学(材料・基礎物性、デバイス、プロセス)およびその製造プロセスの知識をお持ちの方

・表面観察SEM/TEMの知識をお持ちの方

・表面解析XPS/SIMS/EDS/EELS、他FTIR/XRD/GCMS等の知識をお持ちの方

受動喫煙対策

その他

「就業場所が屋外である」、「就業場所によって対策内容が異なる」、「対策内容は採用時までに通知する」 などの場合がその他となります。面接時に詳しい内容をご確認ください
更新日 2023/07/07
求人番号 2844320

採用企業情報

この求人の取り扱い担当者

  • 3.03
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    • 大阪府
    • 立命館大学 経済学部
  • メーカー
    • 大手メーカーを中心にIoT関連、機械学習などの案件が増加しております。 またそれ以外にも多くのメーカーでマネージャークラスの採用を積極的に行っております。
    • (2019/11/26)

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