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| 部署・役職名 | プロセス技術本部Lith |
|---|---|
| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 | 2nm世代、及びBeyond 2nmの先端ロジック開発における主にリソグラフィの業務を担っていただきます。 |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 【専⾨性】WET・DRYリソグラフィ工程の経験、露光装置技術、マスク技術、レジスト材料・プロセス技術のいずれかの経験がある方 【語学⼒】 TOEIC600点以上もしくは同等程度の語学力 高専卒・大卒以上の実務・研究等の経験者（3年以上）または大学院（博士課程）修了以上 ※修了見込含む |
| リモートワーク | 可 「可」と表示されている場合でも、「在宅に限る」「一定期間のみ」など、条件は求人によって異なります |
| 受動喫煙対策 | その他 「就業場所が屋外である」、「就業場所によって対策内容が異なる」、「対策内容は採用時までに通知する」 などの場合がその他となります。面接時に詳しい内容をご確認ください |
| 更新日 | 2024/04/15 |
| 求人番号 | 3455515 |
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