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（設計・PDK技術部）パターニング技術 （ OPC）

年収：800万 ～ 1500万

ヘッドハンター案件

部署・役職名 （設計・PDK技術部）パターニング技術 （ OPC）
職種
業種
勤務地
仕事内容 RET（Resolution Enhancement Technology） 開発者は、基本ルールとパターニング ステップに合わせて照明形状、SMO（Source Mask Optimization）や SRAF（Sub Resolution Assist Feature） などを含めた最適化を行う責任があります。
また、Computational LithographyとしてILT （Inverse Lithography Technology）や計算処理の高速化などの研究開発を担当します。

OPC モデル開発者は、所謂リソシミュレーション環境開発を実施します。レジストの経験的挙動とともに光学系の物理現象を捉えるコンパクトなモデルセットを作成する責任があります。 これにはモデルを構築するための構造のトップダウン （CDSEM） と断面 （X－SEM / TEM） の両方の分析が含まれます。

OPC レシピ開発者は、デザインをウェーハのパターン化に必要なマスク形状に変換するために使用されるコードセット作成の責任を負います。 この役割には、コードセットの作成とシミュレーションベースでの検証の両方が含まれます。
応募資格

【必須（MUST）】

専門性： OPC（Optical Proximity Correction）, RET（Resolution Enhancement Technology）, SMO（Source Mask Optimization）, ILT （Inverse Lithography Technology）に関する深い知識

経験： ”デザイン / デバイス / デザインルール / パターニングへの理解と DTCO（Design Technology Co－Optimization）への貢献
プロセスアサンプションと製造ばらつきに関する知識
先端プロセス向けのソースマスク最適化:SMO（Source Mask Optimization）/モデル/OPC レシピ/RET全般の開発経験、知識
ILT（Inverse Lithography Technology）開発の経験、知識

ターゲットの設計形状を実現するためのOPCレシピ最適化の経験
エッチング テーブル、マスクバイアス等の製造プロセスを理解する能力とそれらに対応するモデリングの理解
OPCレシピを開発するためのEDAツールへの理解と、複数言語（Python、svrf、.tcl）でのプログラミング経験
OPCレシピ改善のための工場との対話の経験
分散処理技術、ネットワークなどのインフラストラクチャに対する理解

テストマスクの設計とその応用経験
計測に必要となるマクロ設計およびレシピの知識
EDAベンダー環境におけるモデリングとアプリケーションの経験（主にリソグラフィー、ただしエッチングの経験の両方が良い）
モデルフィッティング選択に必要となる統計学の経験
モデルフィッティングパラメーター選択に影響を与えるプロセスに対する知識
リソモデル検証とエッチングテーブル生成のための統合マクロ開発の経験
デザインチームと対話し、 DRCを実行した経験
大規模コンピューティング環境におけるデータ準備フロー、OPCレシピの実行
EDAベンダー環境での設計操作スクリプト作成経験
語学力： TOEIC 600 以上、もしくは同等程度

リモートワーク

可

「可」と表示されている場合でも、「在宅に限る」「一定期間のみ」など、条件は求人によって異なります
受動喫煙対策

その他

「就業場所が屋外である」、「就業場所によって対策内容が異なる」、「対策内容は採用時までに通知する」 などの場合がその他となります。面接時に詳しい内容をご確認ください
更新日 2024/04/19
求人番号 3471479

採用企業情報

この求人の取り扱い担当者

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