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部署・役職名 | Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア(GaNデバイスプロセス方向) |
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職種 | |
業種 | |
勤務地 | |
仕事内容 |
・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMPなどのマイクロ・ナノプロセスにおける主要な技術的ブレークスルーを担当し、全プロセスを形成する。 ・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP、その他のプロセスの開発、最適化、異常分析および改善を担当し、プロセスの安定性を確保する。 ・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP 等設備能力および関連材料の評価を担当し、イエローライト設備の立ち上げ、デバッグ、検収に関与する。 ・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMPおよびその他のプロセスに関する技術仕様、操作説明書、及び異常処理 SOPの作成を担当する。 |
労働条件 |
<労働時間区分> フレックスタイム制 コアタイム:10:00~15:00 休憩時間:60分 時間外労働有無:有 <標準的な勤務時間帯> 9:00~18:00 |
応募資格 |
【必須(MUST)】 ・理工学専攻、学士以上の者・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などの1つ以上の装置またはプロセスにおける3年以上の経験 ・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散またはCMP関連のプロセスおよび材料に精通している |
受動喫煙対策 | 喫煙室設置 |
更新日 | 2024/05/09 |
求人番号 | 3517618 |
採用企業情報
この求人の取り扱い担当者
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