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フォトレジストの材料開発担当
年収：応相談
採用企業案件
信越化学工業株式会社
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- 資本金119,419百万円
- 会社規模5001人以上
- 化学・石油
| 部署・役職名 | フォトレジストの材料開発担当 |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
■仕事内容 フォトレジストの材料開発担当として、下記業務をお任せいたします。 ・レジスト原材料および製品の材料設計と合成処方確立 ・材料合成のスケールアップ対応 ・材料および製品の品質改善対応 ・少量実験室設備、パイロット設備の設計・立上げ・運転管理 ■事業内容 ・利益率業界トップクラス/海外売上高比率78％ ・積極的な設備投資、グローバル視点での生産・販売体制戦略で高収益の経営 ・世界シェアトップクラスの塩化ビニル樹脂、半導体シリコンや国内トップクラスシェアのシリコーンなど圧倒的シェアを誇る製品群多数 ■募集背景 半導体製造用製品の材料開発および製造管理のための増員募集です。当社は数多くの半導体材料を抱える総合サプライヤーです。 フォトリソグラフィ工程に使われるフォトレジスト及びフォトマスクブランクもその一つで、高シェアを誇ります。 半導体製造技術の進展と共に高度化する顧客要求に応えるため、人員強化し、顧客との連携強化と拡販を図ります。 |
| 労働条件 |
【初任勤務地】 新機能材料技術研究所 新潟県上越市 ※将来的には、他拠点（群馬県伊勢崎市）へのご異動の可能性もございます。 【受動喫煙対策】 敷地内禁煙（屋内喫煙可能場所あり） 【転勤】 有 国内転勤の可能性がございます。 【雇用形態】 正社員（期間の定め：無） 【試用期間】 有 3ヶ月（試用期間中の勤務条件：変更無） 【賃金形態】 月給制 【就業時間】 フレックスタイム制の職場になります。 ・標準労働時間：8時～16時40分 ・コアタイム：13時～15時 所定労働時間：07時間40分 休憩：60分 ＜標準就業時間＞ 東京：9:00～17:40 工場地区：8:00～16:40 残業：有 残業手当：有 残業時間に応じて別途支給 【休日・休暇】 年間122日 （内訳）土曜 日曜 祝日 有給休暇：入社直後8日 最高付与日数20日 （有給休暇補足） 入社と同時に、次の計算式で計算した日数を付与します。 8日+最初の11月末までの月数を2で割った数（小数点未満切捨） その後、毎年12月に2日加算した日数を付与（最大20日、有効期間2年間） 例)4月入社の場合、8日＋4日＝12日を入社と同時に付与。 12月1日に新たに14日付与。 毎年12月1日に2日ずつ加算し、最大で20日付与 【社会保険】 健康保険：有 厚生年金：有 雇用保険：有 労災保険：有 【退職金】 有 【その他制度】 通勤手当：会社規定に基づき支給 寮・社宅：有 転居時の引越費用等当社負担制度有 その他企業年金、社員持株会、財形、住宅手当、家賃補助、家族手当等 |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 下記を満たす方・有機化学または高分子化学の知識と合成・重合スキル 【歓迎（WANT）】 ＜尚可条件＞・合成処方のスケールアップに関する知識および実務経験 ・有機化学製品のパイロット設備の設計および立上げ実務経験 ・有機化学製品量産製造設備での操業運転管理業務経験 ・化学分析の知識および実務経験 ・英語コミュニケーション力 【語学】英語中級 |
| 受動喫煙対策 | 喫煙室設置 |
| 更新日 | 2024/07/29 |
| 求人番号 | 3687492 |
採用企業情報
- 信越化学工業株式会社
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- 資本金119,419百万円
- 会社規模5001人以上
- 化学・石油
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会社概要
【設立】1926年9月16日
【代表者】斉藤 恭彦
【資本金】1,194億1,900万円
【従業員数】26,004名
【本社所在地】東京都千代田区丸の内一丁目4番1号
【事業内容】
■生活環境基盤材料事業
■電子材料事業
■機能材料事業
■加工・商事・技術サービス事業
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