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半導体ドライエッチングプロセス用ガス開発

年収:800万 ~ 1000万

ヘッドハンター案件

部署・役職名 半導体ドライエッチングプロセス用ガス開発
職種
業種
勤務地
仕事内容 ■半導体ドライエッチング用ガス開発としてエッチング評価および顧客への提案業務に携わっていただきます。

【具体的には】
同社では、半導体デバイス製造工程におけるプロセス課題を解決できる新規ガスをエッチングレシピとセットで半導体メーカに提案していくビジネスモデルへの転換を進めています。入社後は、これまでの経験・スキルを活かして先進的なエッチング装置を用いたエッチング処理、各種分析機器を用いたプラズマ診断、SEMによる加工形状観察を実施し、プロセス条件およびプラズマ診断結果から加工形状を予測する回帰モデル構築という一連の新規ガス開発業務に従事頂きます。将来的には、評価対象ガスの提案、テーマの取りまとめを行うリーダーとして成長して頂くことを期待しています。
労働条件 09:00 - 17:30

健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金

通勤手当、時間外手当 など

寮・社宅、退職金、財形貯蓄、社員持株、保養所

年間124日/(内訳)完全週休2日制(土日)、夏季休暇、年末年始、有給休暇、慶事休暇、産前産後休暇、育児休暇、介護休暇
応募資格

【必須(MUST)】

【歓迎要件】
・エッチング装置を用いた実務経験が3年以上ある方
・デバイス要求を満たすエッチング条件を構築した経験を有する方
・エッチング装置の原理を理解し、操作することができる方
・各種測定器(断面SEM、膜厚測定器)、表面分析装置(XPS、FTIR)、プラズマ 診断装置(各種プローブ、発光分光装置、質量分析計)の原理を理解し測定できる方
・エッチングプロセスを扱える人材を育成及び指導した経験がある方
・専攻学科:電気・電子・情報工学系、化学系の方、または同等の知見をお持ちの方
・高圧ガス製造保安責任者をお持ちの方
・特定高圧ガス取扱主任者をお持ちの方

受動喫煙対策

その他

「就業場所が屋外である」、「就業場所によって対策内容が異なる」、「対策内容は採用時までに通知する」 などの場合がその他となります。面接時に詳しい内容をご確認ください
更新日 2024/10/08
求人番号 3940793

採用企業情報

この求人の取り扱い担当者

  • 2.86
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    • 大阪府
    • 関西外国語大学
  • 不動産 建設 エネルギー
    • 【MVP/準MVP(社内):計3回以上受賞】熟練の経験と業界知識であなた様の転職を成功に導きます。
    • (2021/07/15)

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