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事業管理（計数管理/分析）
年収：800万 ～ 1300万
採用企業案件
株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
| 部署・役職名 | 事業管理（計数管理/分析） |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
◼職種 管理部門 ◼業務内容 〇下記の業務を担当していただきます。 ・描画装置統括部における経営管理データ（研究開発費、部門費、設備費、人件費（工数管理含む））の整理（基礎資料作成含む）、並びに分析業務 ・描画装置統括部における実施責任者（管理職）及び実務担当者への業務遂行に関する支援業務 ・業務の効率化に向けた経営管理データの再構築や見える化、業務プロセスの改善施策の検討、提案 １）職務内容の変更可能性 ⇒有 ２）職務内容変更の範囲 ⇒会社の定める業務 ３）勤務地の変更可能性 ⇒有 ４）勤務地変更の範囲 ⇒海外現地法人を含む、当社各拠点 ◼職場の魅力 ・電子ビームマスク描画装置（以下「描画装置」）は、半導体製造プロセスにおいて極めて重要であり、ニューフレアテクノロジーは高いシェアを有しています。 ・生成AIや自動運転などにより半導体市場はさらに拡大が見込まれる状況にあり、我々が開発・提供する描画装置に対する顧客（半導体製造メーカー）が寄せる期待は高く、また顧客の要望に応えるべく超えなければならないハードルは少なくない状況です。 ・描画装置企画室 管理グループは、これら描画装置の”企画・開発・製造”にかかわる各種管理データを収集、管理、分析することで、開発加速や増産に対応すべく計画の立案支援、各種リソースの再配置や業務効率化のための各種施策などを提案、推進しています。 |
| 労働条件 |
【勤務形態】 正社員 試用期間 有：6ヵ月（条件・待遇に変動なし） 【昇給・賞与】 ・昇給：有（年1回：4月） ・賞与：有（年2回） 【勤務時間】 ・8：45～17：30（休憩時間：60分、実働時間：7時間45分） ※フレックスタイム制（コアタイム無し） ・時間外労働：有（月平均25時間） 【休日・休暇】 ・休暇・完全週休2日制（土・日）、祝日 ・年末年始休暇、夏季休暇 ・有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日） ・慶弔休暇、特別休暇 等 ・年間休日125日以上 【福利厚生】 ・定年：60歳、再雇用：65歳まで ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅（適用条件有） ※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間） ・目的型福祉制度（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助） ・選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与） ・共済会制度 ・保養所、健康診断 ・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得 ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 ・教育研修制度 ほか ・福利厚生支援制度：教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり ・独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり ※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします ◼社会保険 厚生年金、健康保険（東芝健康保険組合）、雇用保険、労災保険、介護保険 【勤務地】 ・本社：神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1 ※最寄駅：JR京浜東北根岸線／新杉田駅 ・受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ・転勤：なし |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 ・事業会社における経理、企画、生産管理、人事業務経験がある。・データベースソフト（Excel Queryなども可）を活用した集計処理に関する業務経験がある ・マネジメント層と適切な調整ができるコミュニケーション能力がある方。 【歓迎（WANT）】 ・前職にて特定プロジェクト（または業務改善活動）にリーダー（またはサブリーダー）としての参画経験がある方（プロジェクトの規模は不問）。・簿記3級以上の知識がある方（ライセンスの所持は不問だが、3級程度の学力は今後必要） ・VBAまたは簡易マクロ作成経験がある方。 |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2024/12/12 |
| 求人番号 | 4089644 |
採用企業情報
- 株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
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会社概要
【設立】2002年8月1日
【代表者】高松 潤
【資本金】64億8,600万円
【従業員数】907名（2024年3月31日現在）
【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
【事業内容】
当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。
電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI（大規模集積回路）の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画・製造するための装置です。
エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。
マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
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