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知的財産（特許権利化業務）
年収：800万 ～ 1300万
採用企業案件
株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
| 部署・役職名 | 知的財産（特許権利化業務） |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
【業務内容】 知的財産を取り扱う部署で、以下の業務をメインに担当していただきます。 ①特許権利化業務（発明発掘、公知例調査、国内外特許出願、中間処理） ②他社特許対策 なお、適性を考慮し、将来的に上記に加え／代えて、知財戦略立案、IPランドスケープ、その他の知財業務に携わっていただく可能性があります。 【職場の魅力】 拡大する半導体製造装置市場において世界トップクラスにあるメーカーで、知財戦略を実行し、事業成長への貢献を体験することができます。 ・2023年度の売上高は901億円、営業利益は286億円です。 ・知財グループは、経営企画部の中に配置され、毎期、社長・関係取締役が参加する知財戦略会議を開催して、知財戦略実行のための活動方針を決定しています。 ・東芝や他のメーカーや特許事務所等の異なる経歴でそれぞれ豊富な実務経験を有する知財メンバーが、互いにサポートし合いながら、一丸となって知財戦略を実行しています。 ・技術開発部門側も定期的に知財関連の会議を開催するなど、知財グループと連携して、各部門の目標達成に向けた知財活動を積極的に推進しています。 ・東芝グループでは知財部門間で活発な情報交換が行われており、キャリア採用メンバーも知財関連の教育受講や情報アップデートが可能です。 |
| 労働条件 |
【雇用形態】 正社員 試用期間： 6ヵ月（条件・待遇に変動なし） 【給与】 昇給：有（年1回：4月） 賞与：有（年2回） 【勤務地】 本社：神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1 最寄駅：JR京浜東北根岸線／新杉田駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 転勤：なし 【勤務時間】 8：45～17：30（休憩時間：60分、実働時間：7時間45分） ※フレックスタイム制（コアタイム無し） 時間外労働：有（月平均25時間） 【休日／休暇】 完全週休2日制（土・日）、祝日 年末年始休暇、夏季休暇 有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日） 慶弔休暇、特別休暇 等 年間休日125日以上 【加入保険】 厚生年金、健康保険（東芝健康保険組合）、雇用保険、労災保険、介護保険 【福利厚生・待遇・制度】 ・福利厚生支援制度：教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり ・定年：60歳、再雇用：65歳まで ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅（適用条件有） ※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間） ・目的型福祉制度（健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助） ・選択型福祉制度「カフェポイント」（年間5万円分のポイント付与） ・共済会制度 ・保養所、健康診断 ・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得 ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 ・教育研修制度 ほか |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 ①メーカー又は特許事務所での特許権利化業務経験が３年以上あり、出願明細書が書ける方➁英文の特許権利化業務に支障が無いレベルの語学力をお持ちの方 ③基本的なPCスキル（Word、Excel、PowerPoint等）をお持ちの方 【歓迎（WANT）】 ①半導体メーカー若しくは半導体製造装置メーカーに従事経験のある方、又は、電気・電子、ソフトウェア関連の出願明細書を書いた経験がある方②弁理士資格を持つ方 |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2024/12/25 |
| 求人番号 | 4162576 |
採用企業情報
- 株式会社ニューフレアテクノロジー
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- 資本金6,486百万円
- 会社規模501-5000人
- 機械
-
会社概要
【設立】2002年8月1日
【代表者】高松 潤
【資本金】64億8,600万円
【従業員数】907名（2024年3月31日現在）
【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
【事業内容】
当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。
電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI（大規模集積回路）の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画・製造するための装置です。
エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。
マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
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