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プロダクト教育グループにおける教育体系構築

年収:800万 ~ 1500万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 プロダクト教育グループにおける教育体系構築
職種
業種
勤務地
仕事内容 ■業務内容
【具体的な業務内容】
・新人および既存サービスエンジニアの保守スキル測定・分析
・体系的な保守スキル育成・向上計画の運用・課題抽出、関連部署へのフィードバック
・サービスエンジニアの所有スキル測定と修得不足スキルに対して教育計画の見直し検討

【入社後の業務】
・フィールドサービスエンジニア向けの研修を受講してもらい、研修内容の把握していただきます。

■配属組織について
【組織について】
・販売した電子ビームマスク描画装置を保守するサービスマンのスキル管理・育成を行っているグループです。
・配属組織:サービス技術第一部 プロダクト教育G
・人数:18名(教育・育成担当:12名 英訳担当:6名)

【職場や職務の魅力】
・サービス技術第一部 プロダクト教育グループは、当社が販売した電子ビームマスク描画装置の保守事業にかかわるサービスエンジニアの保守スキル管理・育成を行っているグループです。
・サービスエンジニア育成に効果的な教育コンテンツ(資料や手順書)や教育設備(トレーニング装置やシミュレータ)を計画的に作成・導入・運用ができます。
・新人サービスエンジニアは必ず当プロダクト教育グループにて座学・実習教育を受講します。効果的かつ体系的に教育が行えるようにPDCAの検討や課題抽出ができます。

1)職務内容の変更可能性
⇒有
2)職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務
3)勤務地の変更可能性
⇒有
4)勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

■働き方
・平均残業時間:20H~30H
・リモートワーク:あり(平均利用頻度:週1程度)
・出張:基本的にはなし
労働条件 【雇用形態】
正社員
雇用期間の定め:
試用期間: 6ヵ月(条件・待遇に変動なし)

【給与】
昇給:有(年1回:4月)
賞与:有(年2回)

【勤務地】
本社:神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
最寄駅:JR京浜東北根岸線/新杉田駅
受動喫煙対策:屋内全面禁煙
転勤:なし

【勤務時間】
8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
時間外労働:有(月平均25時間)

【休日/休暇】
年間休日125日以上
完全週休2日制(土・日)、祝日 ※海外駐在時は週休2日となります
年末年始休暇、夏季休暇
有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
慶弔休暇、特別休暇 等

【加入保険】
厚生年金、健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険

【福利厚生・待遇・制度】
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・共済会制度
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
・福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり
・独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり
応募資格

【必須(MUST)】

・人材育成管理・育成計画の立案と運用経験がある方
・基本的なITスキルがある方(Excel※マクロは不問、 Power Point、 Word)

【歓迎(WANT)】

・タレントマネジメントシステム(カオナビなど)の使用経験がある方
・何らかの言語(Python、 C言語 など)を用いたプログラム経験がある方

受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2024/12/25
求人番号 4169381

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【設立】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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