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GE08_エッチング液・洗浄液を代表とした半導体向け薬液処方開発

年収：800万～ 1300万

ヘッドハンター案件

部署・役職名	GE08_エッチング液・洗浄液を代表とした半導体向け薬液処方開発
職種	研究・開発
業種	その他
勤務地	神奈川県
仕事内容	当社の半導体材料事業は、長年培ってきたフォトレジストを代表としたパターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在ではパターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。本職務では、半導体製造プロセス用洗浄液（特にCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリー）の薬液処方開発および市場導入、量産品の課題解決を担っていただきます。 ■担当職務半導体製造プロセス用洗浄液事業において、薬液開発、国内および海外の幅広い顧客対応（顧客ニーズ把握～商品企画～顧客への導入～量産品立ち上げ）を担っていただきます。＜職務内容＞・薬液開発（※海外関係会社と協業、MI（マテリアルインフォマティクス）/LA（ラボラトリーオートメーション）活用）・国内外の顧客、顧客候補とのコンタクトを通じた顧客ニーズのリサーチ・顧客ニーズに対応した評価系探索・構築・顧客への新製品導入活動・量産品立ち上げ ■仕事の魅力半導体製造プロセスにおいて洗浄工程は欠かせぬ工程であり、歩留まり向上のためのキープロセスとなります。前工程・後工程関わらず、半導体の微細化・市場の成長に伴って洗浄薬液の課題やニーズが増えており、今後も技術革新が期待されています。洗浄工程は直前の工程により洗浄対象が変化するため、顧客との議論・情報収集が重要であり、その情報に基づく評価系構築～薬液開発～量産立ち上げという一連の研究開発プロセス全てに関わることができます。また、CMP（化学機械研磨）工程においては、研磨液開発チームとCMP後洗浄液開発チームがグローバルな共同開発体制を構築し、Total solutionとしてCMP関連材料（スラリー＋洗浄液）を開発しているため、日常的に海外との協業が行われており、アメリカ・台湾への海外駐在のチャンスもあります。近年はMI（マテリアルインフォマティクス）・LA（ラボオートメーション）の活用も積極的に進めており、化学の知識に加え、統計学・計算化学・プログラミングのスキルを持つ方は活躍の場が用意されています。
労働条件	雇用形態: 正社員勤務時間: フレックスタイム制 9:00～17:40（コアタイム10:30~15:10）標準労働時間 7時間40分休日休暇: 完全週休2日制（土日）祝日年次有給休暇（半日取得可能）夏季休暇年末年始休暇ストック休暇永年勤続休暇特別休暇看護休暇（半日取得可能）クリエイティブ休暇産前産後休暇育児休職介護休職慶弔休暇ボランティア休職など待遇・福利厚生: 昇給年1回賞与年2回交通費補助手当新幹線通勤補助手当社会保険完備財形貯蓄制度退職金社宅独身寮確定拠出年金財形貯蓄持株会住宅融資共済会保養所（山中湖、菅平、熱海、三浦ほか）など完備契約ホテル・レジャー施設・スポーツ施設など多数あり
応募資格	【必須（MUST）】【必須（MUST）】・以下いずれかの経験を有する方 1 半導体分野におけるCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリーに関する薬液開発経験 2 MIまたはLAを利用した高機能材料の開発経験・オーナーシップ、コミュニケーション能力、迅速な行動力、的確な判断力を有する方【歓迎（WANT）】・半導体プロセス装置を使用した開発経験または知識を有する方・顧客サポート対応、顧客との協業体制の構築、商品化/事業化の経験を有する方・海外顧客との打合せで概要把握や議論ができるレベルの英語力を有する方・MIやLAなどの知見・興味を有する方・半導体設備の評価選定、仕様調整、導入経験を有する方・特許出願業務の経験を有する方
受動喫煙対策	その他「就業場所が屋外である」、「就業場所によって対策内容が異なる」、「対策内容は採用時までに通知する」などの場合がその他となります。面接時に詳しい内容をご確認ください
更新日	2024/12/18
求人番号	4171145

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