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| 部署・役職名 | 次世代装置開発リーダー |
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| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
〇電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務 具体的には、以下の通り。 ・上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。 ※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。 【職場や職務の魅力】 〇 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備で、メモリーや先端ロジックの企業やファウンダリー企業、マスク専業メーカーなどが顧客となります。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。これに伴い、従来から市場を牽引してきたシングルビームのマスク描画装置も、一定の装置需要が毎年見込まれています。 加えて、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、処理性能や精度などの技術力、歩留りやダウンタイムの抑制といった生産性は勿論、顧客の生産フェーズまでを見据えた総保有コストの低減を提供していくことが必要となります。顧客にとって生産性の高い価値ある製品を投入していくことが次世代装置開発に求められる課題となります。 |
| 労働条件 |
就業時間 ・8：45～17：30（休憩時間：60分、実働時間：7時間45分） ※フレックスタイム制（コアタイム無し） ※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度 ・時間外労働：有（月平均25時間） 社会保険 ・厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険 休日 完全週休二日制 ・完全週休2日制（土・日）、祝日 ・年末年始休暇、夏季休暇 ・有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日） ・慶弔休暇、特別休暇 等 ・年間休日125日以上 賞与 ・年2回：7月、12月（昨年度実績 5.42ヶ月） 制度・福利厚生 ・定年：60歳、再雇用：65歳まで ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅（適用条件有） ※独身借上社宅制度（35歳まで）、世帯向け借上社宅制度（最大12年間） ・共済会制度、選択型福祉制度「カフェポイント」 ・保養所、健康診断 ・リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得 ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 ・教育研修制度 ほか |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 ・半導体製造装置他、精密機器装置などの装置の開発に従事した経験がある方 |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2024/12/19 |
| 求人番号 | 4171908 |
採用企業情報
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- 会社規模501-5000人
この求人の取り扱い担当者
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- 建設 メーカー
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