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市場調査・マーケティング

年収:800万 ~ 1500万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 市場調査・マーケティング
職種
業種
勤務地
仕事内容 【職種】
営業職

【業務内容】
関連する展示会、学会にも積極的に参加頂き、常にアップデートされた情報を社内に展開頂く業務です。
・展示会や学会への参加、技術動向や各メーカーの動向調査
・調査会社へ依頼や勉強会参加、調査内容の共有
・営業担当と顧客先へ訪問し、今後の動向調査
・市場調査の結果を部内や社内にフードバック
・新規装置開発および弊社装置拡販のため、営業戦略立案/推進

【配属組織について】
・組織構成:40名(マーケティング担当:1名)

1)職務内容の変更可能性
⇒有

2)職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務

3)勤務地の変更可能性
⇒有

4)勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

【職場の魅力】
・半導体製造装置のうち電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置、の3製品を中心として、製造・販売・保守を行っています。
 特に最先端電子ビームマスク描画装置では世界シェアトップクラスです。
・キャリア入社者も多い部署で、馴染みやすい環境です。
労働条件 【勤務形態】正社員
【試用期間】有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)
【勤務地】・本社:神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
      ※最寄駅:JR京浜東北根岸線/新杉田駅
     ・受動喫煙対策:屋内全面禁煙
     ・転勤:なし
【勤務時間】・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
       ※フレックスタイム制(コアタイム無し)
      ・時間外労働:有(月平均25時間)
【休日】・休暇・完全週休2日制(土・日)、祝日
    ・年末年始休暇、夏季休暇
    ・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
    ・慶弔休暇、特別休暇 等
    ・年間休日125日以上
【社会保険】厚生年金、健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険
【福利厚生】・定年:60歳、再雇用:65歳まで
      ・退職金制度、企業年金
      ・財形制度
      ・借上げ社宅(適用条件有)
       ※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
      ・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助)
      ・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
      ・共済会制度
      ・保養所、健康診断
      ・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
      ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
      ・教育研修制度 ほか
応募資格

【必須(MUST)】

・半導体製造装置や半導体業界のご知見
・顧客との折衝経験や学会・展示会への参加経験

【歓迎(WANT)】

・半導体製造装置、半導体業界で市場調査や営業企画の経験
・ビジネスレベルの英語力

【ターゲットとなる人材の特性】
・半導体製造装置でのマーケティング経験者。
・半導体に関わる企業でのマーケティング経験者
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2025/01/08
求人番号 4172527

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【設立】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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