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営業企画(戦略立案・中計 / 予算等策定・その他計数管理)

年収:800万 ~ 1500万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 営業企画(戦略立案・中計 / 予算等策定・その他計数管理)
職種
業種
勤務地
仕事内容 【職種】
管理部門

【業務内容】
・当社製品の販売における予算策定と進捗管理
・装置の出荷計画の検討・推進(スロット管理、優先順位の検討、他部署との連携)
・全社の経営戦略に基づいた営業戦略の策定・推進
・輸出規制などへの対応検討
・顧客満足度調査の取りまとめ
・その他会議体への報告・資料作成

【配属組織について】
組織構成:40名(営業企画担当:2名)

1)職務内容の変更可能性
⇒有

2)職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務

3)勤務地の変更可能性
⇒有

4)勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

【職場の魅力】
・半導体製造装置のうち電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置、の3製品を中心として、製造・販売・保守を行っています。
 特に最先端電子ビームマスク描画装置では世界シェアトップクラスです。
・縦割りの業務ではなく、営業戦略立案から予算策定、出荷計画検討等、営業企画として幅広い経験をすることが可能です。
・キャリア入社者も多い部署で、馴染みやすい環境です。
労働条件 【勤務形態】正社員
【試用期間】有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)
【働き方】・リモートワーク:有(週3日程度)
     ・平均残業時間:10時間 / 月
     ・出張頻度:基本的にはなし

     ・昇給:有(年1回:4月)
     ・賞与:有(年2回)
     ・福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり
     ・独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり
     ※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
【勤務地】・本社:神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
      ※最寄駅:JR京浜東北根岸線 / 新杉田駅
     ・受動喫煙対策:屋内全面禁煙
     ・転勤:なし
【勤務時間】・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
      ※フレックスタイム制(コアタイム無し)
      ・時間外労働:有(月平均25時間)
【休日・休暇】・完全週休2日制(土・日)、祝日
       ・年末年始休暇、夏季休暇
       ・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
       ・慶弔休暇、特別休暇 等
       ・年間休日125日以上
【社会保険】厚生年金、健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険
【福利厚生】・定年:60歳、再雇用:65歳まで
      ・退職金制度、企業年金
      ・財形制度
      ・借上げ社宅(適用条件有)
       ※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
      ・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助)
      ・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
      ・共済会制度
      ・保養所、健康診断
      ・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
      ・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
      ・教育研修制度 ほか
応募資格

【必須(MUST)】

・事業会社にて営業企画、もしくは管理部門(生産管理 / 事業管理 / 営業事務)での経験

【歓迎(WANT)】

・半導体製造装置メーカー等、工業製品メーカーにて営業企画での経験

【ターゲットとなる人材の特性】
・半導体製造装置・半導体業界にて営業企画、事業企画、生産管理、営業事務のご経験をお持ちの方
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2025/01/08
求人番号 4172738

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【設立】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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